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可抑制自褪色/自着色并扩展电位窗口的电致变色薄膜结构、电致变色器件

摘要

本发明公开了一种可抑制自褪色/自着色并扩展电位窗口的电致变色薄膜结构和采用所述电致变色薄膜结构的电致变色器件。电致变色薄膜结构包括依次叠置的基底、透明导电层、电致变色层、阻挡层和液相电解质层,或者,依次叠置的基底、透明导电层、电致变色层、阻挡层和固相电解质层;阻挡层的材料为Si、SiO2‑x、SiO2、Ti、TiO2‑x、TiO2中的任一种或几种,0<x<2。本发明在常规的电致变色层和液相/固相电解质层间引入一层阻挡层,抑制为了平衡界面电化学势造成的材料自发着色和褪色的行为,提升电致变色材料在着色和褪色后的光学记忆效应,同时保护材料不在过高电位条件下发生不可逆的副反应,提高稳定性。

著录项

  • 公开/公告号CN114035389A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-02-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 浙江大学;

    申请/专利号CN202111313419.9

  • 发明设计人 刘涌;曾宇;莫建良;韩高荣;徐刚;

    申请日2021-11-08

  • 分类号G02F1/161(20060101);G02F1/1524(20190101);G02F1/15(20190101);

  • 代理机构33224 杭州天勤知识产权代理有限公司;

  • 代理人高佳逸;胡红娟

  • 地址 310058 浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号

  • 入库时间 2023-06-19 14:09:38

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-03-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):G02F 1/161 专利申请号:2021113134199 申请日:20211108

    实质审查的生效

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