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一种纳米级双层材料基于扫描电镜的表征方法

摘要

本发明一种纳米级双层材料基于扫描电镜的表征方法,属于扫描电子显微镜微观表征领域。本发明使用蒙特卡洛模拟对入射电子与待测纳米级双层材料的相互作用进行模拟计算,获取背散射电子激发深度;对待测实验样品进行扫描电子显微镜表征观察,获取相应电压条件下的背散射电子图像。本发明提供的方法可以直接应用于任何扫描电子显微镜对纳米级双层材料的微观表征,操作简单且可重复性强,可为纳米级双层材料微观表征提供技术支持。

著录项

  • 公开/公告号CN114002251A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-02-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国航发北京航空材料研究院;

    申请/专利号CN202111119634.5

  • 发明设计人 滕超逸;刘昌奎;

    申请日2021-09-24

  • 分类号G01N23/2251(20180101);

  • 代理机构11008 中国航空专利中心;

  • 代理人穆环宇

  • 地址 100095 北京市海淀区北京市81号信箱

  • 入库时间 2023-06-19 14:05:00

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-02-01

    公开

    发明专利申请公布

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