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含金属层Z切薄膜铌酸锂材料结构

摘要

本发明公开了一种含金属层Z切薄膜铌酸锂材料结构,该材料结构自下到上依次包括:衬底、金属层、缓冲层、Z切铌酸锂薄膜,满足Z切薄膜铌酸锂集成电光调控芯片制造需求。本发明在铌酸锂薄膜和衬底之间直接加入金属层,在电光调控结构应用中,金属层可直接作为一个电极层置于薄膜铌酸锂光波导正下方,与置于薄膜铌酸锂光波导正上方电极构建电场,对夹在上下电极中间的薄膜铌酸锂光波导进行电光调控,调控电极间距不受限于工艺精度,切电光重叠因子比传统结构更高,电光调控效率更高。

著录项

  • 公开/公告号CN114002865A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-02-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202111279055.7

  • 发明设计人 钱广;

    申请日2021-10-31

  • 分类号G02F1/03(20060101);G02F1/035(20060101);

  • 代理机构32203 南京理工大学专利中心;

  • 代理人陈鹏

  • 地址 210000 江苏省南京市秦淮区永智路6号南京白下高新技术产业园区四号楼1006室

  • 入库时间 2023-06-19 14:05:00

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-02-01

    公开

    发明专利申请公布

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