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击穿电压温度系数可调的Trench MOSFET器件及制备方法

摘要

本发明提供一种击穿电压温度系数可调的Trench MOSFET器件及制备方法,包括P+衬底、金属化漏极、P‑漂移区、氧化层、金属化源极、栅电极、N‑掺杂区、P+重掺杂区、N+重掺杂区;本发明有效解决了Trench MOSFET穿通击穿电压随温度升高而增大所带来的可靠性问题。显然,本发明中所有的N型区和P型区可完全对换,对换后形成导电类型相反的器件。

著录项

  • 公开/公告号CN113990931A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-01-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 电子科技大学;

    申请/专利号CN202111261810.9

  • 发明设计人 李泽宏;王彤阳;刘小菡;黄龄萱;

    申请日2021-10-28

  • 分类号H01L29/06(20060101);H01L29/78(20060101);H01L21/336(20060101);

  • 代理机构51232 成都点睛专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人敖欢

  • 地址 611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号

  • 入库时间 2023-06-19 14:01:55

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-01-28

    公开

    发明专利申请公布

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