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公开/公告号CN113993621A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-01-28
原文格式PDF
申请/专利权人 克里斯托夫·迪纳;
申请/专利号CN202080043846.7
发明设计人 克里斯托夫·迪纳;
申请日2020-06-10
分类号B01L1/02(20060101);B01J3/00(20060101);B23C3/00(20060101);B23C9/00(20060101);
代理机构51258 成都超凡明远知识产权代理有限公司;
代理人李楠
地址 德国纳戈尔德
入库时间 2023-06-19 14:01:55
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-01-28
公开
国际专利申请公布
机译: 用于基板的真空处理的设备,用于制造具有有机材料的装置的系统以及用于将处理真空室和维护真空室彼此密封的方法
机译: 用于涂覆装置的真空室和用于制造用于涂覆装置的真空室的方法
机译:开发用于FPD制造设备的新型真空室密封
机译:用于FPD制造设备的新型真空室密封的开发
机译:粒子群优化(PSO)模糊系统和NARMAX方法折衷应用于热真空室识别
机译:使用NITE元素MetableA可扩展软件框架在分布式Octree网格上求解PDE的可扩展软件框架,用于使用有限元方法在分布式Octree网格上求解PDES
机译:用于可扩展纳米米文植物的可扩展制造的多功能和强大平台
机译:具有低涡流损耗的薄金属真空室的新颖制造技术
机译:用于在真空室中顺序处理多级互连电路的方法