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可扩展的真空室和用于制造可扩展的真空室的方法

摘要

本发明涉及一种可扩展的真空室(10),其具有扁平的框架元件(14)和端板(12),并且涉及一种用于制造这种真空室(10)的方法。在轴向方向(Ra)上,端板(12)在框架元件(14)之前和之后排列成行,并且与框架元件(14)一同限定真空室(10)的腔室容积。

著录项

  • 公开/公告号CN113993621A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-01-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 克里斯托夫·迪纳;

    申请/专利号CN202080043846.7

  • 发明设计人 克里斯托夫·迪纳;

    申请日2020-06-10

  • 分类号B01L1/02(20060101);B01J3/00(20060101);B23C3/00(20060101);B23C9/00(20060101);

  • 代理机构51258 成都超凡明远知识产权代理有限公司;

  • 代理人李楠

  • 地址 德国纳戈尔德

  • 入库时间 2023-06-19 14:01:55

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-01-28

    公开

    国际专利申请公布

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