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一种用于硅片深层次加工的抛光装置

摘要

本发明涉及硅片加工技术领域,且公开了一种用于硅片深层次加工的抛光装置,解决了目前市场上用于硅片深加工的抛光装置在使用时,不能对不同规格的硅片进行打磨抛光,以及不方便更换抛光盘的问题,其包括底板,底板顶部的中间位置上固定安装有支撑柱,且在支撑柱的顶端固定安装有支撑板,支撑板底部远离支撑柱的一端上设置有能够上下移动的电机,在电机的输出端上连接有抛光盘,电机输出端与抛光盘的连接处设置有连接栓,底板的顶部设置有能够转动的转动板,且转动板的中间开设有通孔,本发明,能够对不同尺寸规格的硅片进行打磨抛光,并且在更换不同的抛光盘时操作简单方便,既节省了经济的使用,还提高了工作的效率。

著录项

  • 公开/公告号CN113967871A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-01-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 湖南泰安硅业有限公司;

    申请/专利号CN202111402182.1

  • 申请日2021-11-22

  • 分类号B24B29/02(20060101);B24B45/00(20060101);B24B41/00(20060101);B24B47/22(20060101);

  • 代理机构11876 北京智宇正信知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人李明卓

  • 地址 419400 湖南省怀化市麻阳县高村镇三家村岩湾

  • 入库时间 2023-06-19 14:00:21

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-01-25

    公开

    发明专利申请公布

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