一种短偏移距电磁勘探的视电阻率-深度剖面生成方法

摘要

本发明公开了一种短偏移距电磁勘探的视电阻率‑深度剖面生成方法。在以感应数定量划分的场区中，分别确定各测点及其各频点或各时窗的记录点位置；将确定后的记录点位置，作为各测点及其各频点或各时窗的赋值点。1条轴向装置的测线，生成1条沿测线方向的视电阻率‑深度剖面；1条赤道向装置的测线，通常生成1条沿测线的视电阻率‑深度剖面，和沿测点至源点方向、数目与测点数相等的视电阻率‑深度剖面。本发明为解决短偏移距探测中非平面波引起的阴影效应提供了一种简便的方法，使视电阻率‑深度剖面解释法具有更广泛的适应性。