首页> 中国专利> 一种神经突触器件及其制备方法、电子设备

一种神经突触器件及其制备方法、电子设备

摘要

本发明提供了神经突触器件及其制备方法、电子设备,神经突触器件包括硅衬底、纳米沟道、第一微米沟道、第二微米沟道、第一液体、第二液体、第一电极及第二电极等。纳米沟道和第一、第二微米沟道形成于硅衬底上。纳米沟道壁面沉积有氧化铝,纳米沟道两端分别连通第一、第二微米沟道,第一液体设置于第一微米沟道和纳米沟道内,第二液体设置于第二微米沟道和纳米沟道内,与第一液体在纳米沟道中形成互不相溶的界面。本发明通过水解氧化铝的方式在纳米沟道的外壁面形成正电荷,以基于表现出来的离子输运特征形成抑制型神经突触器件。本发明的神经突触器件具有工艺一致性好、性能更稳定以及成本低等优点,有利于神经突触器件的进一步集成。

著录项

  • 公开/公告号CN113948634A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-01-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京大学;

    申请/专利号CN202111058725.2

  • 发明设计人 张盼;王玮;郭业昌;

    申请日2021-09-08

  • 分类号H01L45/00(20060101);

  • 代理机构11619 北京辰权知识产权代理有限公司;

  • 代理人刘贺秋

  • 地址 100871 北京市海淀区颐和园路5号

  • 入库时间 2023-06-19 13:55:46

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号