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用于校正显微镜物镜视场中对焦平面变化的系统和方法

摘要

公开了用于生成放置在成像系统的样本保持器上的样本的聚焦校正图像的计算机实现系统和方法。成像系统包括图像传感器和相对于图像传感器可移动的透镜。生成透镜的特征映射,其将图像的每个像素的坐标与透镜的定位相关联。根据在在透镜位于透镜的对应定位时所获取的样本的多个图像,图像生成器生成样本的聚焦校正图像的输出像素。图像生成器根据特征映射选择第二定位,从与第二定位相关联的样本的图像中选择图像,并且根据与输出像素对应的所选择图像的像素值来确定输出像素值。

著录项

  • 公开/公告号CN113939759A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-01-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 分子装置有限公司;

    申请/专利号CN202080041304.6

  • 申请日2020-05-28

  • 分类号G02B21/36(20060101);G02B21/24(20060101);G02B7/38(20210101);H04N5/232(20060101);H04N5/225(20060101);

  • 代理机构11112 北京天昊联合知识产权代理有限公司;

  • 代理人张娜;林文

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2023-06-19 13:54:12

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-01-14

    公开

    国际专利申请公布

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