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一种适用坩埚下降法的晶体生长炉

摘要

一种适用坩埚下降法的晶体生长炉,包括坩埚和设于升降平台上的耐热管,坩埚内置于耐热管,耐热管内部填充满Al2O3粉,Al2O3粉将密闭的坩埚包裹;耐热管外设置有加热管,加热管外设置有保温箱;还包括导流管,导流管与坩埚连通处作为入流口,结晶到入流口高度时即将出现结晶不透明的情况,导流管的出流口的高度低于入流口;导流管外设置有加热环,坩埚顶部通过引出管连通至保温箱外。本发明可在现有的晶体生长炉上进行改动,仅通过设置导流管实现了对尚未结晶的原料的及时泄放,保证得到的单晶为完全透明的整根晶棒。

著录项

  • 公开/公告号CN113913918A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-01-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 江西匀晶光电技术有限公司;

    申请/专利号CN202111187759.1

  • 发明设计人 夏钰坤;夏宗仁;夏文英;张婷;

    申请日2021-10-12

  • 分类号C30B11/00(20060101);C30B29/20(20060101);

  • 代理机构36142 南昌合达信知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人刘学涛

  • 地址 332000 江西省九江市开发区长城路121号恒盛科技园内

  • 入库时间 2023-06-19 13:52:41

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-10-27

    发明专利申请公布后的撤回 IPC(主分类):C30B11/00 专利申请号:2021111877591 申请公布日:20220111

    发明专利申请公布后的撤回

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