用于微影图案化的多层结构及半导体装置的形成方法

摘要

本揭露提供了一种用于微影图案化的多层结构及半导体装置的形成方法。多层结构包含基板、基板上方的底部抗反射涂层(BARC)层及BARC层上方的光阻层。BARC层包含聚合物及水解促进剂。光阻层包含通过包括可水解配位基的前体有机金属化合物的部分水解获得的有机金属二聚物。