公开/公告号CN113921429A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-01-11
原文格式PDF
申请/专利权人 绍兴中芯集成电路制造股份有限公司;
申请/专利号CN202111198344.4
申请日2021-10-14
分类号H01L21/67(20060101);H01L21/02(20060101);
代理机构31237 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人田婷
地址 312000 浙江省绍兴市皋埠镇临江路518号
入库时间 2023-06-19 13:51:08
机译: 半导体晶圆湿法清洗和湿法蚀刻设备
机译: 晶圆干式清洗机和采用相同方法有效清洗晶圆的晶圆清洗方法
机译: 湿法清洗晶圆而不会破坏氨气的设备和方法