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青蒿素吲哚菁绿/超薄水滑石纳米片复合材料及其制备与应用

摘要

本发明公开了一种青蒿素&吲哚菁绿/超薄水滑石纳米片复合材料及其制备与应用。所述复合材料包括:超薄水滑石纳米片,以及负载于其上的青蒿素或被聚合物保护的青蒿素和吲哚菁绿。其制备方法是:先用一种“自上而下”的方法合成超薄水滑石纳米片,然后通过超声搅拌青蒿素、吲哚菁绿等功能分子与超薄水滑石纳米片,合成所述复合材料。该复合材料在近红外光照射下实现近红外,光声成像的同时有效杀死肿瘤细胞;其中的青蒿素可进一步增强复合产物的治疗效率。该试剂有望用于肿瘤的临床诊断与协同治疗。

著录项

  • 公开/公告号CN113797334A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-12-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院理化技术研究所;

    申请/专利号CN202010469470.8

  • 发明设计人 关山月;杨雪婷;陆军;周树云;

    申请日2020-05-28

  • 分类号A61K41/00(20200101);A61K9/14(20060101);A61K31/366(20060101);A61P35/00(20060101);B82Y5/00(20110101);B82Y20/00(20110101);B82Y30/00(20110101);B82Y40/00(20110101);

  • 代理机构11257 北京正理专利代理有限公司;

  • 代理人赵晓丹

  • 地址 100190 北京市海淀区中关村东路29号

  • 入库时间 2023-06-19 13:46:35

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