首页> 中国专利> 多沟槽式萧特基二极管

多沟槽式萧特基二极管

摘要

一种多沟槽式萧特基二极管,包含一半导体基层、一背金属层、一外延层、一层间介电层、一第一金属层、一钝化层与一第二金属层。其中,外延层堆叠于半导体基层,包含一终端沟槽结构、一第一沟槽结构、一第二沟槽结构及一第三沟槽结构。层间介电层是在一终端区内堆叠于外延层。第一金属层堆叠于终端沟槽结构与层间介电层,并延伸至第二沟槽结构与第三沟槽结构之间。钝化层堆叠于第一金属层与层间介电层。第二金属层堆叠于第一金属层与钝化层,并延伸至第一沟槽结构处。通过在终端区设置多个沟槽结构,可以有效的分散电场并避免崩溃电压过早发生。

著录项

  • 公开/公告号CN113809144A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-12-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 台湾半导体股份有限公司;

    申请/专利号CN202010547068.7

  • 申请日2020-06-16

  • 分类号H01L29/06(20060101);H01L29/872(20060101);

  • 代理机构72003 隆天知识产权代理有限公司;

  • 代理人黄艳

  • 地址 中国台湾新北市

  • 入库时间 2023-06-19 13:45:04

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号