公开/公告号CN113768529A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-12-10
原文格式PDF
申请/专利号CN202110883561.0
申请日2014-04-24
分类号A61B6/04(20060101);A61B6/02(20060101);
代理机构11038 中国贸促会专利商标事务所有限公司;
代理人顾玉莲
地址 美国康涅狄格
入库时间 2023-06-19 13:41:59
机译: 用于断层合成和乳腺X射线摄影术成像的控制X射线聚焦特性的方法和系统
机译: 用于断层合成和乳腺X射线摄影术成像的控制x射线焦点特征的方法和系统
机译: 用于断层合成和乳腺X射线摄影术成像的控制X射线焦点特征的方法和系统