一种定位图案转移的刻蚀装置及其刻蚀方法

摘要

本发明公开了一种定位图案转移的刻蚀装置，包括：输送装置，以及输送装置上方设置的转移组件，输送装置设置有若干凹槽，每个硅片根据光刻胶图案黏附有刻蚀腔体；每一层刻蚀腔体的截面大小由上到下依次增大，每层刻蚀腔体由环状纤维构筑而成，并通过支撑纤维连接每个环状纤维以加固；支撑纤维向刻蚀腔体内侧延伸一定长度；至少在伸长部顶端和尾端分别涂覆有超亲水介质层和超疏水介质层；转移组件包括若干精控头，精控头包括距离传感器、喷头、伸缩控制杆。该设备根据硅片表面的光刻胶图案，将刻蚀液忠诚地喷涂于刻蚀腔体内；通过精控头的精确定位，减少刻蚀液滴加错位的问题，并且精确控制液面的平整度，实现对液体厚度的精确控制。