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一种电枢过盈接触面的设计方法

摘要

一种电枢过盈接触面的设计方法,步骤如下:通过接触效率分析静态下电枢与轨道相接触时接触面上的理想接触压力分布;根据作用于电枢接触面上的电磁力,计算电枢的变形量,根据电枢的变形量计算电枢与轨道间的接触压力,得到电枢与轨道无过盈配合时通电状态下电枢接触面上的接触压力分布;将电枢和轨道的理想接触压力分布和电枢与轨道无过盈配合时通电状态下电枢接触面上的接触压力分布作差,得到电枢与轨道过盈配合时的理想初始接触压力分布;基于电枢与轨道过盈配合时的理想初始接触压力分布,采用反向加载法确定电枢臂接触面的轮廓曲线方程。采用本发明方法设计的电枢可以改善发射过程中由于接触特性不佳导致的磨损、刨削、烧蚀等情况。

著录项

  • 公开/公告号CN113761681A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-12-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国人民解放军空军工程大学;

    申请/专利号CN202111029160.5

  • 申请日2021-09-01

  • 分类号G06F30/17(20200101);G06F30/23(20200101);G06F119/08(20200101);G06F119/14(20200101);

  • 代理机构44291 广东朗乾律师事务所;

  • 代理人杨焕军

  • 地址 710000 陕西省西安市灞桥区长乐东路甲字一号

  • 入库时间 2023-06-19 13:37:05

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-10-21

    授权

    发明专利权授予

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