首页> 中国专利> 一种低电容低残压的双向ESD保护器件及其制作方法

一种低电容低残压的双向ESD保护器件及其制作方法

摘要

本发明公开一种低电容低残压的双向ESD保护器件及其制作方法,包括N型衬底材料、P型外延层、正面金属区和背面金属区,P型外延层顶部设有N型扩散区b,N型扩散区b之间设有P型扩散区,最外侧的N型扩散区b外侧设有N型扩散区a,P型外延层顶部设有隔离介质层。外延工艺在N型衬底材料生长一层P型外延层,生长一层牺牲氧化层,光刻形成N型扩散区图形,磷注入,磷推进,形成N型扩散区,光刻形成P型扩散区图形,硼注入,硼推进,形成P型扩散区,光刻形成N型扩散区图形,磷注入,磷推进,形成N型扩散区,正面淀积隔离介质层,光刻形成接触孔区,正面金属化,背面金属化。在背面金属接触基板的的时候,有利于散热,保证产品的性能。

著录项

  • 公开/公告号CN113764404A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-12-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 成都吉莱芯科技有限公司;

    申请/专利号CN202111106081.X

  • 发明设计人 宋文龙;杨珏琳;张鹏;许志峰;

    申请日2021-09-22

  • 分类号H01L27/02(20060101);H01L29/06(20060101);H01L21/77(20170101);

  • 代理机构32243 南京正联知识产权代理有限公司;

  • 代理人查鑫利

  • 地址 四川省成都市自由贸易试验区成都高新区世纪城南路599号6栋5层505号

  • 入库时间 2023-06-19 13:37:05

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-07-26

    专利申请权的转移 IPC(主分类):H01L27/02 专利申请号:202111106081X 登记生效日:20220713 变更事项:申请人 变更前权利人:成都吉莱芯科技有限公司 变更后权利人:江苏吉莱微电子股份有限公司 变更事项:地址 变更前权利人:四川省成都市自由贸易试验区成都高新区世纪城南路599号6栋5层505号 变更后权利人:226200 江苏省南通市启东市汇龙镇牡丹江西路1800号 变更事项:申请人 变更前权利人: 变更后权利人:成都吉莱芯科技有限公司

    专利申请权、专利权的转移

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号