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用于单轴跟踪器的力矩优化桁架基础

摘要

单轴跟踪器的桁架基础,经过优化以抵抗力矩。对于承受横向载荷和力矩的基础,基础通过力矩连接支撑旋转轴,该力矩连接有意偏移到工作点下方以减少弯矩的影响。桁架支腿之间的间距和支腿的角度会影响桁架工作点的高度,进而影响工作点下方直到跟踪器制造商指定的旋转轴的最小高度的可用偏移。

著录项

  • 公开/公告号CN113906669A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-01-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 OJJO股份有限公司;

    申请/专利号CN202080023244.5

  • 发明设计人 T·哈德孙;D·玛尔;K·佩斯;

    申请日2020-03-19

  • 分类号H02S20/32(20060101);H02S30/10(20060101);

  • 代理机构33239 余姚德盛专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人周积德

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2023-06-19 13:33:57

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-04-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):H02S20/32 专利申请号:2020800232445 申请日:20200319

    实质审查的生效

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