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一种近场局部照射目标散射近远场转换方法

摘要

本发明提供一种近场局部照射目标散射近远场转换方法,包含步骤:S1、将目标分割成P个散射区域;S2、依序对各个散射区域进行2‑D平面采样,获取每个采样点的2‑D近场散射数据;S3、基于2‑D近场测试天线接收电压的表达式,对散射区域的所述2‑D近场散射数据进行近远场转换,获取该散射区域的2‑D远场散射特征量;S4、将各散射区域的2‑D远场散射特征量进行总场合成,基于RCS关系式计算得到目标总体RCS。本发明还提供一种近场局部照射目标散射近远场转换方法,适用于3‑D空间采样下获取目标总体RCS。

著录项

  • 公开/公告号CN113702939A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-11-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海无线电设备研究所;

    申请/专利号CN202111020081.8

  • 发明设计人 贺新毅;童广德;徐秀丽;廖意;

    申请日2021-09-01

  • 分类号G01S7/41(20060101);

  • 代理机构31323 上海元好知识产权代理有限公司;

  • 代理人朱成之;张妍

  • 地址 200233 上海市闵行区中春路1555号

  • 入库时间 2023-06-19 13:24:42

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