首页> 中国专利> 低电阻率重掺磷硅单晶生产装置及方法

低电阻率重掺磷硅单晶生产装置及方法

摘要

本发明提供一种低电阻率重掺磷硅单晶生产装置及方法,属于硅单晶生产技术领域。该生产装置包括由石英材质制成的掺杂舟,所述掺杂舟包括红磷升华室及锗熔融室,以同时向硅熔液中掺杂磷及锗;所述红磷升华室的顶部开设若干红磷挥发孔,所述锗熔融室的底部开设若干锗渗漏微孔。掺杂红磷时,同时向硅熔液中掺杂单质锗,锗掺杂量为红磷掺杂量的1/14~3/14。实践表明,掺杂锗后,不仅不影响重掺磷硅单晶的性能,且能够有效提高低电阻率重掺磷硅单晶的整棒率,提高产品合格率,减少浪费。尤其地,生产电阻率为0.001Ω.cm以下的重掺磷硅单晶时,整棒率由不足10%提高至25%。

著录项

  • 公开/公告号CN113668048A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-11-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 宁夏中欣晶圆半导体科技有限公司;

    申请/专利号CN202110958466.2

  • 申请日2021-08-20

  • 分类号C30B15/04(20060101);C30B29/06(20060101);

  • 代理机构64105 宁夏三源鑫知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人孙彦虎

  • 地址 750000 宁夏回族自治区银川市经济技术开发区光明西路28号

  • 入库时间 2023-06-19 13:20:03

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-07-14

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C30B15/04 专利申请号:2021109584662 申请公布日:20211119

    发明专利申请公布后的驳回

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号