通过原子层沉积获得的多层抗等离子体涂层

摘要

本公开涉及通过原子层沉积获得的多层抗等离子体涂层。本文描述了使用原子层沉积(ALD)工艺将抗等离子体涂层沉积到腔室部件的表面上的制品、系统和方法。抗等离子体涂层具有应力消除层和包含Y2O3‑ZrO2固溶体的层，并且均匀地覆盖特征，诸如纵横比为约3:1至约300:1的那些特征。