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杨继芳;
无;
等离子体; PACVD; 金属; 涂层; 单层; 多层;
机译:化学镀镍中间层对反应直流磁控溅射制备单层CrN,TiN,TiAlN涂层和纳米TiAlN / CrN多层涂层电化学行为的影响
机译:反应性直流磁控溅射制备单层CrN,TiN,TiAlN涂层和纳米层TiAlN / CrN多层涂层的电化学行为
机译:氙或氩辅助等离子体等离子体辅助沉积的高折射率五氧化二钽涂层的制备及性能
机译:等离子体辅助不平衡磁控溅射制备的Ta / TaN / TaN(Ag)/ TaN纳米多层涂层的电化学响应
机译:通过反应和离子束辅助,电子束物理气相沉积(EB-PVD)合成和表征碳化钛,碳氮化钛硼,硼化钛/碳化钛和碳化钛/碳化铬多层涂层。
机译:银等离子体谐振器上单层和多层量子点薄膜中的激子复合能量和电荷转移
机译:真空弧等离子体辅助方法在滤液中辅助方法合成单层ZrN涂层
机译:等离子体辅助化学气相沉积法制备m2钢表面TiN涂层
机译:在单个连续操作中制备复杂的钛基多层涂层,包括通过等离子体辅助化学气相沉积法在基材上涂覆氮化钛,碳氮化钛(以及另一种金属)
机译:通过等离子体增强化学气相沉积制备的单层和多层硅树脂
机译:通过等离子体增强化学气相沉积法制备的单层和多层硅
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