声明
第一章 绪论
1.1 引言
1.2 氮化物涂层
1.2.1 氮化物涂层简介
1.2.2 氮化物涂层结构与性能
1.3 TiAlN、TaN涂层
1.3.1 TiAlN涂层
1.3.2 TaN涂层
1.4 氮化物多层涂层
1.4.1 子层依次生长
1.4.2 子层交替生长
1.5 多层涂层的力学特性及硬化机制
1.5.1 力学特性
1.5.2 硬化机制
1.6 涂层制备方法
1.6.1 多弧离子镀技术(MAIP)
1.6.2 磁控溅射技术(MS)
1.7 本课题的提出与研究内容
第二章 实验方法及过程
2.1 实验设备
2.2 实验材料和实验方案
2.2.1 靶材的选择
2.2.2 基底的选择
2.2.3 基本实验方案
2.3 实验步骤
2.4 实验主要工艺参数
2.4.1 TiAlN/Ta复合涂层的制备
2.4.2 TiAlN/TaN/Ta多层涂层的制备
2.5 表征方法及性能测试
2.5.1 表征方法
2.5.2 性能测试
第三章 工艺参数对TiAlN/Ta涂层结构与性能的影响
3.1 前言
3.2 基片负偏压对TiAlN/Ta复合涂层结构与性能的影响
3.2.1 TiAlN/Ta复合涂层的相结构
3.2.2 TiAlN/Ta复合涂层的沉积速率
3.2.3 TiAlN/Ta复合涂层的SEM 截面形貌
3.2.4 TiAlN/Ta复合涂层的AFM 表面形貌
3.2.5 TiAlN/Ta复合涂层的硬度与弹性模量
3.2.6 TiAlN/Ta复合涂层的摩擦学性能
3.3 Ar与N2质量流量比对TiAlN/Ta复合涂层结构与性能的影响
3.3.1 TiAlN/Ta复合涂层的相结构
3.3.2 TiAlN/Ta复合涂层的沉积速率
3.3.3 TiAlN/Ta复合涂层的SEM 截面形貌
3.3.4 TiAlN/Ta复合涂层的AFM 表面形貌
3.3.5 TiAlN/Ta复合涂层的硬度与弹性模量
3.3.6 TiAlN/Ta复合涂层的摩擦学性能
3.4 过渡层对TiAlN/Ta复合涂层结构与性能的影响
3.4.1 TiAlN/Ta复合涂层的相结构
3.4.2 TiAlN/Ta复合涂层的SEM 截面形貌
3.4.3 TiAlN/Ta复合涂层的AFM 表面形貌
3.4.4 TiAlN/Ta复合涂层的硬度与弹性模量
3.4.5 TiAlN/Ta复合涂层的结合力与韧性
3.4.6 TiAlN/Ta复合涂层的摩擦学性能
3.5 小结
第四章 TiAlN/TaN 纳米多层涂层的制备与结构性能研究
4.1 前言
4.2 射频功率对TaN涂层结构与性能的影响
4.2.1 射频功率对含Ta 涂层沉积速率的影响
4.2.2 射频功率对含Ta 涂层相结构的影响
4.3 TiAlN/TaN纳米多层的制备与结构性能研究
4.3.1 TiAlN/TaN纳米多层涂层的厚度
4.3.2 TiAlN/TaN纳米多层涂层的相结构
4.3.3 TiAlN/TaN纳米多层涂层的SEM 截面形貌
4.3.4 TiAlN/TaN纳米多层涂层的AFM 表面形貌
4.3.5 TiAlN/TaN纳米多层涂层的硬度与弹性模量
4.3.6 TiAlN/TaN纳米多层涂层的摩擦学性能
4.4 小结
第五章 TiAlN/TaN 多层复合涂层的制备与结构性能研究
5.1 前言
5.2 TiAlN/TaN多层涂层的制备与结构性能研究
5.2.1 TiAlN/TaN多层涂层的厚度
5.2.2 TiAlN/TaN多层涂层的相结构
5.2.3 TiAlN/TaN多层涂层的SEM 截面形貌
5.2.4 TiAlN/TaN多层涂层的AFM 表面形貌
5.2.5 TiAlN/TaN多层涂层的硬度与弹性模量
5.2.6 TiAlN/TaN多层涂层的摩擦学性能
5.3 小结
第六章 结论与展望
6.1 结论
6.2 展望
参考文献
攻读硕士期间的学术成果
致谢
太原理工大学;
