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用于黑矩阵的颜料分散组合物和用于黑矩阵的颜料分散光阻组合物

摘要

本发明涉及用于黑矩阵的颜料分散组合物和用于黑矩阵的颜料分散光阻组合物,所述用于黑矩阵的颜料分散组合物包含炭黑和/或内酰胺黑、二氧化硅、含碱性基团的颜料分散剂、碱溶性树脂以及溶剂,并且所述二氧化硅通过六甲基硅氮烷进行表面处理,相对于100质量份的所述炭黑和/或内酰胺黑,所述二氧化硅为40质量份以下。该用于黑矩阵的颜料分散组合物的分散稳定性优异,并可获得具有低反射率的用于黑矩阵的颜料分散光阻组合物。

著录项

  • 公开/公告号CN113621274A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-11-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 阪田油墨股份有限公司;

    申请/专利号CN202110490947.5

  • 发明设计人 辻康人;中川朋树;井上拓也;

    申请日2021-05-06

  • 分类号C09D17/00(20060101);G03F7/004(20060101);G03F7/027(20060101);

  • 代理机构11314 北京戈程知识产权代理有限公司;

  • 代理人程伟

  • 地址 日本大阪府

  • 入库时间 2023-06-19 13:13:51

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-03-07

    实质审查的生效 IPC(主分类):C09D17/00 专利申请号:2021104909475 申请日:20210506

    实质审查的生效

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