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一种曲率自适应集群磁流变抛光自由曲面的方法及装置

摘要

本发明涉及超精密加工技术领域,更具体地,涉及一种曲率自适应集群磁流变抛光自由曲面的方法及装置。其中,抛光方法以下步骤:将待加工工件置于旋转平台组件内,使各个抛光头位于待加工工件上方;将磁流变抛光液倒入旋转平台组件中;使各个抛光头实现同步转动;通过旋转平台组件使待加工工件进行旋转,开始抛光;在抛光过程中,使抛光头上下移动进行恒压抛光;y方向直线导轨组件带动旋转平台组件进行y方向的水平低速往复移动,使待加工工件得到均匀抛光。本发明可完好地实现抛光自由曲面的要求,在提高加工效率的基础上保证恒力加工,减轻加工的不均匀性,非常适合对自由曲面的光学元件、半导体、陶瓷等材料进行高效率超精密抛光。

著录项

  • 公开/公告号CN113579987A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-11-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 广东工业大学;

    申请/专利号CN202110838320.4

  • 申请日2021-07-23

  • 分类号B24B31/112(20060101);B24B31/12(20060101);B24B1/00(20060101);B24B41/06(20120101);C09G1/02(20060101);

  • 代理机构44102 广州粤高专利商标代理有限公司;

  • 代理人朱忠俊

  • 地址 510090 广东省广州市越秀区东风东路729号

  • 入库时间 2023-06-19 13:07:23

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-10-04

    授权

    发明专利权授予

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