一种用于清洗激光全息模压版的清洗剂

摘要

本发明涉及工业清洗剂技术领域，且公开了一种用于清洗激光全息模压版的清洗剂，包括以下质量分数配比的原料：由纳米二氧化钛和聚乙炔组成的清洗催化剂3～8％，辛基酚聚氧乙烯醚(OPE)5％，脂肪醇聚氧乙烯醚(AEO)2.5％，N,N'‑双油酰基乙二胺二乙磺酸钠(DTM)3％，乙二醇单丁醚(EB)5～12％，余量为去离子水。本发明的清洗催化剂在光线照射时，能够使污渍的分子接受光生电子‑空穴对发生降解，并溶解在本发明的清洗剂中，从而对于激光全息模压版上大面积的污渍达到去污力99％以上的技术效果。