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一种用于高解解析度的精细金属掩模版及其制作工艺

摘要

本发明公开了一种用于高解解析度的精细金属掩模版及其制作工艺,本掩模版由聚酰亚胺原液与具有磁性的粉体混合而成。使得掩膜版在保证足够磁性的前提下,做到重量最小,厚度最小,产生的弯曲形变最小,能够实现大尺寸掩膜版的制作,工艺简单,使用方便。

著录项

  • 公开/公告号CN113529014A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-10-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 合肥联顿恪智能科技有限公司;

    申请/专利号CN202110843361.2

  • 发明设计人 张耀辉;宗璐;

    申请日2021-07-26

  • 分类号C23C14/04(20060101);C23C14/24(20060101);

  • 代理机构35264 泉州企记知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人许寿宁

  • 地址 230601 安徽省合肥市经济技术开发区青龙潭路产业园研发楼D1

  • 入库时间 2023-06-19 12:57:44

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