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一种基于一次性曝光的液晶光控取向消偏器及其制备方法

摘要

本发明公开了一种基于一次性曝光的液晶光控取向消偏器及其制备方法,包括两块相对设置的玻璃基板、位于所述玻璃基板相对面上的光控取向层、以及位于所述玻璃基板之间的液晶层,其中,所述玻璃基板分为第一基板与第二基板,二者之间距离由间隔粒子决定,用以支撑所述液晶层;本发明系统配置简单,且同时可制备液晶取向任意均匀随机分布的液晶消偏器,通过一次性曝光快速制备任意液晶光学器件,无需对液晶进行多次分割操作并对其多次曝光,因而避免了精度要求过高的问题;该液晶消偏器可消偏区域面积较大,偏振精度更好,可对单色光源有效消偏且在小光斑孔径下仍然有良好的消偏效果。

著录项

  • 公开/公告号CN113504597A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-10-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西北工业大学;

    申请/专利号CN202110803885.9

  • 申请日2021-07-16

  • 分类号G02B5/30(20060101);

  • 代理机构31374 上海创开专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人李兰兰

  • 地址 710129 陕西省西安市长安区东大街道东祥路1号

  • 入库时间 2023-06-19 12:53:05

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-06-02

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):G02B 5/30 专利申请号:2021108038859 申请公布日:20211015

    发明专利申请公布后的驳回

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