单抗光电保护膜制备方法及单抗光电保护膜

摘要

本发明公开了一种单抗光电保护膜制备方法，包括步骤：S1、放卷；S2、涂胶；S3、烘干；S4、收卷；在所述步骤S2中，通过涂胶辊将胶槽中的胶液涂覆在基膜表面，由搅拌装置对胶槽中的胶液进行搅拌，同时由抽气装置吸收从胶液中溢出的气体。本发明的单抗光电保护膜制备方法，通过设置搅拌装置对胶槽中的胶液进行搅拌，避免胶液长期静止不动而发生凝固，提高双抗光电保护膜的良率，同时设置的抽气装置能够及时将有毒气体抽走，避免有毒气体散发到空气中，改善工作环境。本发明还公开了一种单抗光电保护膜。