公开/公告号CN113437621A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-09-24
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院上海光学精密机械研究所;
申请/专利号CN202110671420.2
申请日2021-06-17
分类号H01S3/00(20060101);H01S3/102(20060101);H01S3/10(20060101);
代理机构31317 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙);
代理人张宁展
地址 201800 上海市嘉定区清河路390号
入库时间 2023-06-19 12:40:27
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-12-06
授权
发明专利权授予
机译: 使用这样的设备保护高功率激光装置和高功率激光光学系统的方法和装置
机译: 屏蔽使用这种装置的高功率激光装置和高功率激光光学系统的方法和装置
机译: 屏蔽使用这种装置的高功率激光装置和高功率激光光学系统的方法和装置