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一种2-乙基己酸与光气反应合成2-乙基己酰氯的方法

摘要

本发明属于2‑乙基己酰氯合成的相关领域,具体公开了一种2‑乙基己酸与光气反应合成2‑乙基己酰氯的方法,包括如下加工方法:气体混合物的制备;光气的制备;2‑乙基己酰氯的合成;2‑乙基己酰氯的储存。本发明采用现用现做的方式,减少了2‑乙基己酰氯的储存时间,且用多少做多少量,避免长时间储存2‑乙基己酰氯发生的气体泄漏以及爆炸的危险,更加安全,此外,在制作2‑乙基己酰氯的过程中,采用活性炭和干燥剂等多种干燥方式,避免制作的气体中带有水汽,影响其使用效果,本装置制作流程简单且方便,更加人性化,适合推广。

著录项

  • 公开/公告号CN113402383A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-09-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海祖玥新材料科技有限公司;

    申请/专利号CN202010188397.7

  • 发明设计人 王祖玥;王磊;

    申请日2020-03-17

  • 分类号C07C53/42(20060101);C07C51/60(20060101);C07C51/64(20060101);B01D53/28(20060101);

  • 代理机构11589 北京劲创知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人张铁兰

  • 地址 201515 上海市金山区金山卫镇秋实路688号1号楼5单元742室G座

  • 入库时间 2023-06-19 12:38:50

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-10-18

    发明专利申请公布后的撤回 IPC(主分类):C07C53/42 专利申请号:2020101883977 申请公布日:20210917

    发明专利申请公布后的撤回

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