公开/公告号CN113390832A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-09-14
原文格式PDF
申请/专利权人 北京京衢科技有限责任公司;
申请/专利号CN202110558764.2
申请日2021-05-21
分类号G01N21/55(20140101);G01N21/01(20060101);
代理机构11751 北京市鼎立东审知识产权代理有限公司;
代理人陈佳妹;朱慧娟
地址 102400 北京市房山区辰光东路16号院4号楼9层908
入库时间 2023-06-19 12:35:33
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-04-25
授权
发明专利权授予
机译: 用于制造例如光刻胶的微光刻工具。半导体芯片,具有投射物镜,该投射物镜具有反射镜,该反射镜布置成将从位于目标平面的标线片反射的辐射引导至位于像平面的基板
机译: 控制物体沿目标线移动的装置使用两个反射镜系统,使激光束围绕目标线旋转,以由移动物体携带的接收装置进行检测
机译: 具有减少反射的EUV掩模或标线