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一种基于线性耦合的介质基超表面全光开关

摘要

本发明公开了一种基于线性耦合的介质基超表面全光开关。其基本结构为衬底上周期排列的二维介质多聚体超表面阵列。当信号电磁波(光)单独入射时,透过样品的光强较大,光开关处于导通状态;当控制电磁波(光)同时入射时,透过样品的光强极小,光开关由导通状态转换为阻断状态,实现了全光开关。通过改变多聚体超表面结构,可以调整目标电磁波的响应波长,可调范围能够覆盖射频到可见光波段。

著录项

  • 公开/公告号CN113391469A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-09-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202011398813.2

  • 申请日2020-12-02

  • 分类号G02F1/01(20060101);

  • 代理机构11245 北京纪凯知识产权代理有限公司;

  • 代理人赵静

  • 地址 100029 北京市朝阳区安定路5号院3号楼中建财富国际中心15层02单元

  • 入库时间 2023-06-19 12:35:33

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-03-28

    授权

    发明专利权授予

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