首页> 中国专利> 一种高性能单光子像素spad结构

一种高性能单光子像素spad结构

摘要

本发明公开了一种高性能单光子像素spad结构,涉及集成电路技术领域。本发明包括硅表面、阴极、阳极,阴极上加高压,阳极上接地;在硅表面进行多次掺杂不同性质的杂质,将N型杂质和P型杂质的离子注入能量,形成多个PN结背靠背,最后通过并联的方式,将多个反偏的PN结并联;采用多次掺杂,使信号从深处能够有效引出,并且使任意两PN结均为并联,从而在纵向上有效增加空间耗尽区深度;阴极和深N阱注入与P型杂质之间使用外延层低浓度掺杂做隔离;阳极和深P阱注入与N型杂质之间使用外延层低浓度掺杂做隔离。本发明有效的扩展了耗尽区的深度,提高了探测效率,减少光电子的扩散时间,从而降低时间抖动,可有效降低SPAD雪崩电压。

著录项

  • 公开/公告号CN113380912A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-09-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海矽印科技有限公司;

    申请/专利号CN202110644303.7

  • 发明设计人 武大猷;江建明;张睿轶;李高志;

    申请日2021-06-09

  • 分类号H01L31/0352(20060101);H01L31/107(20060101);H01L27/146(20060101);

  • 代理机构31374 上海创开专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人李兰兰

  • 地址 201306 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区临港新片区环湖西二路888号C楼

  • 入库时间 2023-06-19 12:32:17

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号