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用于钌化学机械抛光的不含氧化剂的浆料

摘要

本发明提供化学机械抛光组合物,其包含:(a)维氏硬度为16GPa或更大的研磨剂,及(b)液体载剂,其中该抛光组合物基本上不含氧化剂且其中该抛光组合物具有约0至约7的pH。本发明进一步提供使用抛光组合物对基板尤其是包含钌的基板进行抛光的方法。

著录项

  • 公开/公告号CN113383047A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-09-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 CMC材料股份有限公司;

    申请/专利号CN201980091149.6

  • 发明设计人 柯政远;黄宏聪;T.J.卡特;

    申请日2019-12-09

  • 分类号C09G1/02(20060101);C09K3/14(20060101);B24B37/34(20060101);B24B57/02(20060101);

  • 代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人邢岳;宋莉

  • 地址 美国伊利诺伊州

  • 入库时间 2023-06-19 12:32:17

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