一种具有红外高折射率低色散的超材料及其制备方法

摘要

本发明公开一种具有红外高折射率低色散的超材料，包括金属纳米线阵列和介质层，金属纳米线阵列垂直嵌入到介质层；金属纳米线阵列由多个金属纳米线组成，金属纳米线直径不小于2nm，长度与介质层厚度相同，金属纳米线之间的间距为1‑6nm；金属纳米线在所述超材料的体积百分数为5％‑50％；介质层为半导体或陶瓷介质。该超材料具有较高的折射率和较低色散，本发明还公开了一种具有红外高折射率低色散的超材料的制备方法，包括：预处理衬底；选取金属，陶瓷或半导体分别作为共溅射靶材，进行多靶磁控共溅射，同时施加等离子体轰击辅助，制得金属纳米线阵列‑陶瓷或半导体复合层超材料。该制备方法操作简单、高效。