公开/公告号CN113218126A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-08-06
原文格式PDF
申请/专利权人 惠而浦有限公司;
申请/专利号CN202011535444.7
申请日2020-12-23
分类号F25D11/02(20060101);F25D17/06(20060101);F25D21/08(20060101);F25D29/00(20060101);
代理机构11587 北京汇知杰知识产权代理有限公司;
代理人吴焕芳;杨勇
地址 美国密歇根州
入库时间 2023-06-19 12:08:44
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-01-20
实质审查的生效 IPC(主分类):F25D11/02 专利申请号:2020115354447 申请日:20201223
实质审查的生效
机译: 用于以连续过程涂覆衬底的真空涂覆系统包括真空室,该真空室具有一个隔室系统,该隔室系统具有两个隔室,两个隔室在衬底的流动方向上彼此并排布置,并具有输送口
机译: 用于监视更多隔室反射镜布置的方法和装置,具有这种类型的装置的光学布置以及用于-和离开第一更多隔室反射镜布置的第二更多隔室反射镜布置以及用于投影曝光的照明光学器件具有此类设备的系统
机译: 具有可单独创建的附加隔室的家用制冷器具和形成附加隔室的方法