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基于多重修正的荧光染色薄膜厚度测量标定方法

摘要

本发明以若干不同标准厚度薄膜的荧光照片作为样本,基于多项式并考虑荧光成像区域的光学特性,建立薄膜厚度与荧光强度之间的关系式,构建标定系数方程组并求解,使用统计学方法减小随机误差,得到标定系数表。拍摄待测薄膜的荧光照片,基于标定系数表以及薄膜厚度与荧光强度之间的关系式,计算得到每一像素单元对应的薄膜厚度。通过再次测量标准厚度薄膜,得到测量误差分布情况,对标定系数与测量值进行校正,可显著减小由非线性、荧光成像区域光学特性以及荧光强度随机性带来的测量误差,能有效提高荧光染色薄膜厚度的测量精度以及量程。

著录项

  • 公开/公告号CN113188456A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-07-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京理工大学;

    申请/专利号CN202110429859.4

  • 发明设计人 王文中;陈虹百;梁鹤;赵自强;

    申请日2021-04-21

  • 分类号G01B11/06(20060101);

  • 代理机构11120 北京理工大学专利中心;

  • 代理人代丽;郭德忠

  • 地址 100081 北京市海淀区中关村南大街5号

  • 入库时间 2023-06-19 12:04:09

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-08-19

    授权

    发明专利权授予

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