首页> 中国专利> 一种用于光电催化降解污染物的WO3/CdS/MoS2复合薄膜的制备方法

一种用于光电催化降解污染物的WO3/CdS/MoS2复合薄膜的制备方法

摘要

本发明公开一种用于光电催化降解污染物的WO3/CdS/MoS2复合薄膜的制备方法。该方法首先配制WO3生长溶液,采用水热法经过退火处理在FTO导电玻璃上生长WO3纳米棒薄膜,然后以WO3纳米棒为基底,采用水热法在较低温度下负载一层CdS纳米球,之后采用水热法在WO3/CdS纳米结构上负载一层片层状的MoS2纳米薄膜,最终得到WO3/CdS/MoS2复合薄膜。所制备的复合薄膜提升了WO3的可见光吸收,促进了光电催化性能的提高,制备方法简单易操作,整体成本低廉。

著录项

  • 公开/公告号CN113145136A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-07-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 天津城建大学;

    申请/专利号CN202110344210.2

  • 发明设计人 刘志锋;赵全有;

    申请日2021-03-31

  • 分类号B01J27/051(20060101);B01J37/10(20060101);B01J37/08(20060101);C01G41/02(20060101);C01G11/02(20060101);C01G39/06(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 300384 天津市西青区津静公路26号

  • 入库时间 2023-06-19 12:00:51

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-02-03

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):B01J27/051 专利申请号:2021103442102 申请公布日:20210723

    发明专利申请公布后的视为撤回

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