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基于光学暗场显微技术的检测系统和方法

摘要

本发明涉及缺陷检测和纳米颗粒检测领域,提供一种基于光学暗场显微技术的检测系统和方法。本发明利用样品表面起伏和和检测目标的空间分布及几何形貌的区别,将特定偏振态的照明光束以一定角度照射到样品的待检测区域,减小样品表面纳米级或亚纳米级起伏散射的杂散光强度,并使杂散光和检测目标散射的信号光偏振不同,调控探测光束的偏振态,滤除绝大部分杂散光,降低杂散光带来的背景噪声,提升检测信噪比,提高检测灵敏度。使用本发明所述系统和方法,可大幅度将光学方法可检测的缺陷和纳米颗粒推向更小尺寸。

著录项

  • 公开/公告号CN113125436A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-07-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 华中科技大学;

    申请/专利号CN202110433853.4

  • 发明设计人 陈学文;何勇;林树培;

    申请日2021-04-22

  • 分类号G01N21/84(20060101);G01N21/88(20060101);G01N21/01(20060101);

  • 代理机构11570 北京众达德权知识产权代理有限公司;

  • 代理人刘杰

  • 地址 430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号

  • 入库时间 2023-06-19 11:52:33

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-08-30

    授权

    发明专利权授予

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