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有机/无机杂化聚合物基光保护性添加剂,其制法及用途

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摘要

光保护性添加剂以及它的制造方法，该光保护性添加剂基于由溶胶凝胶法制造的具有化学基本结构通式(I)的多支化有机/无机杂化聚合物，R

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2019-10-08

未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C08G 77/388 授权公告日:20130313 终止日期:20181016 申请日:20061016

专利权的终止
2013-03-13

授权

授权
2013-03-13

授权

授权
2009-02-11

实质审查的生效

实质审查的生效
2009-02-11

实质审查的生效

实质审查的生效
2008-12-17

公开

公开
2008-12-17

公开

公开

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1. 有机/无机杂化聚合物基光保护性添加剂,其制法及用途 [P] . 中国专利： CN101326217B . 2013.03.13
2. 一种巯基化有机-无机杂化整体柱及其制法和用途 [P] . 中国专利： CN108421280B . 2020.08.04
3. POLYMER BASED ORGANIC-INORGANIC HETEROJUCTION PHOTOANODE FOR PHOTOELECTROCHEMICAL WATER-SPLITTING AND MANUFACTURING METHOD THEREOF [P] . 韩国专利： KR102153735B1 . 2020-09-08

机译：聚合物基光-有机水分解的有机-无机杂化光触媒及其制备方法
4. POLYMER BASED ORGANIC-INORGANIC HETEROJUCTION PHOTOANODE FOR PHOTOELECTROCHEMICAL WATER-SPLITTING AND MANUFACTURING METHOD THEREOF [P] . 韩国专利： KR20200001229A . 2020-01-06

机译：聚合物基光-有机水分解的有机-无机杂化光触媒及其制备方法
5. LIGHT PROTECTIVE ADDITIVE BASED ON ORGANIC/ INORGANIC HYBRID POLYMER, METHOD FOR ITS MANUFACTURE AND USE THEREOF [P] . PT1943293E . 2015-05-25

机译：基于有机/无机杂化聚合物的光保护添加剂及其制备方法和用途