面曝光光斑光强匀化方法及其应用

摘要

本发明公开了面曝光光斑光强匀化方法及其应用，匀化方法包括以下步骤：S1、在面曝光切片分层软件中对stl模型进行切片处理获得切片图像，并对切片图像进行灰度处理，生成二值灰度图像；S2、生成高斯补偿图像，获得参数可调的高斯晕影，所述参数包括高斯峰值和高斯半径；S3、将步骤S1获得的二值灰度图像与步骤S2获得的高斯晕影进行叠加计算，生成含高斯补偿的切片图案；S4、将含高斯补偿的切片图案加载至液晶空间光调制器驱动设备，开启激光生成并检测面状光斑：如果光斑不符合要求，则修改高斯晕影的参数，重复步骤S2‑S4，直至光斑符合要求。本发明解决了金属面曝光增材制造过程中光斑光强不均匀的问题。