光掩膜图案的处理方法、处理装置和光掩膜版

摘要

本公开是关于一种光掩膜图案的处理方法、处理装置和光掩膜版，所述光掩膜图案的处理方法包括：设置包含第一标记和第二标记的图案层；设置辅助层，所述辅助层包括与所述第一标记对应的第一区域和与所述第二标记对应的第二区域，其中，所述第一区域和所述第二区域的遮透光设定不同；合并所述图案层和所述辅助层，所述第一区域覆盖所述第一标记，所述第二区域覆盖所述第二标记。本公开可以在互锁图案形成的过程中，防止异常曝光现象的发生。