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用于电光调制器的电光晶体薄膜、制备方法及电子元器件

摘要

本申请提供的用于电光调制器的电光晶体薄膜、制备方法及电子元器件,在层叠有电极层的衬底层上制备目标凹槽阵列;将电光晶体基片进行离子注入、并切割成电光晶体切片;将各个电光晶体切片转移至目标凹槽阵列中对应的凹槽内、且与目标凹槽阵列中对应的凹槽内的隔离层键合,得到键合体;对所述键合体进行热处理,得到电光晶体薄膜。本申请保留在各个凹槽内的电光晶体薄膜层形成光波导结构,通过由电极形成的凹槽控制光波导的光信号,从而实现电光调制功能。同时,本申请只在衬底层被刻蚀的区域上形成隔离层,而不是在衬底层与电极层之间夹一层隔离层,从而可以既可以防止光信号向衬底层泄露,又可以保证整体结构的厚度较小。

著录项

  • 公开/公告号CN113050307A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-06-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 济南晶正电子科技有限公司;

    申请/专利号CN202110260364.3

  • 发明设计人 刘桂银;张秀全;王金翠;连坤;

    申请日2021-03-10

  • 分类号G02F1/03(20060101);G02F1/035(20060101);G02B6/122(20060101);G02B6/136(20060101);G02B6/12(20060101);

  • 代理机构11363 北京弘权知识产权代理有限公司;

  • 代理人逯长明;许伟群

  • 地址 250100 山东省济南市高新区港兴三路北段1号济南药谷研发平台1号楼B1806

  • 入库时间 2023-06-19 11:40:48

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-05-31

    授权

    发明专利权授予

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