一种微波介质陶瓷表面镀银的PVD工艺

摘要

本发明公开了一种微波介质陶瓷表面镀银的PVD工艺，采用真空平面磁控溅射镀膜，首先陶瓷件预处理清洗，进真空室加热，并对真空室抽真空；然后真空室通入氩气，进行离子清洗；最后对陶瓷件进行镀膜，包括：关闭氩气、辅助偏压，在陶瓷件上镀膜Cr层，形成打底层；在打底层上镀膜Ag/Cu/Cr合金层，形成第一过渡层；在第一过渡层上镀膜Ag/Cu合金层，形成第二过渡层；在第二过渡层上镀膜Ag层，完成镀银。本发明的真空平面磁控溅射镀膜工艺，原材料以惰性气体和固体金属靶材为主，在100‑300℃温环境下沉积金属膜；本发明制程短、工艺制程简单、工艺流程环保、成本低且单件产品能耗比低。