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一种利用DTC-TETA改性黄铁矿抑制光腐蚀的制备方法

摘要

本发明涉及一种利用二硫代氨基甲酸钠(DTC‑TETA)改性黄铁矿抑制光腐蚀的制备方法,属于半导体和光化学领域。将黄铁矿粉碎,研磨,过100目筛,使用超纯水(体积1:10)冲洗5次,放置于‑20℃冰箱冷藏12h,然后使用真空冷冻干燥机干燥48h。称取0.2g黄铁矿样品至50mL烧杯中,摇动烧杯使样品均匀的平铺在烧杯底部。然后用1mL 5%的DTC‑TETA和样品混匀,在通风橱中风干20h,制成包膜黄铁矿样品,简称PY‑DT。本发明的改性黄铁矿抑制光腐蚀率高,在室温模拟太阳光条件下具有优于纯黄铁矿光腐蚀效果,光腐蚀抑制率可达到100%。

著录项

  • 公开/公告号CN112961975A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-06-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 桂林理工大学;

    申请/专利号CN202110083767.5

  • 申请日2021-01-21

  • 分类号C22B1/00(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 541004 广西壮族自治区桂林市七星区建干路12号

  • 入库时间 2023-06-19 11:26:00

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-10-27

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C22B 1/00 专利申请号:2021100837675 申请公布日:20210615

    发明专利申请公布后的驳回

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