一种光稳定的七甲川菁荧光染料及其合成方法与应用

摘要

本专利涉及一类光稳定的七甲川菁类荧光染料及其合成方法与应用，这类染料在七甲川菁染料母体上引入了噁唑啉开关修饰的封端基团。此开关修饰的荧光分子在固体、部分有机溶剂中都处于闭环状态，保护分子免于氧化和光漂白。相比于不加修饰的甲川菁类染料极易光漂白，这类化合物在二甲基亚砜中，受500W汞灯照射可维持60分钟内荧光强度基本不变；在pH 7.4的缓冲溶液中，受780nm激光照射60分钟内最大吸收维持初始值的80％。基于此，该类染料在荧光材料领域具有广阔的应用前景。