一种双滚转跟踪去耦控制方法及系统

摘要

一种双滚转跟踪去耦控制方法，步骤如下：S1计算弹体相对于惯性空间的旋转角速度在惯性系的投影；S2计算弹体相对于惯性空间的旋转角速度在弹体系的投影；S3计算弹体相对于惯性空间的旋转角速度在成像系统系的投影；S4将该速度作为负反馈，闭环到双滚转控制回路中，抵消弹体摆动引起的光轴晃动，实现去耦。利用惯组测量的弹体姿态信息进行去耦解算，无需成像系统内部安装惯性测量元件。相对于框架式产品，双滚转结构上不需要安装速率陀螺等测量元件，既减轻了重量，也减小了制造成本，满足现代产品小型化设计需求。