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公开/公告号CN112919473A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-06-08
原文格式PDF
申请/专利权人 山西烁科晶体有限公司;
申请/专利号CN202110438088.5
发明设计人 马康夫;魏汝省;赵丽霞;李斌;张继光;张辰宇;李刚;方芃博;陈琪;许正;靳霄曦;
申请日2021-04-22
分类号C01B32/984(20170101);
代理机构14109 太原高欣科创专利代理事务所(普通合伙);
代理人崔雪花;冷锦超
地址 030006 山西省太原市综改示范区太原唐槐园区唐槐路5号
入库时间 2023-06-19 11:19:16
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-10-27
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C01B32/984 专利申请号:2021104380885 申请公布日:20210608
发明专利申请公布后的驳回
机译: 直接碳化法合成高纯碳化硅粉及其高纯碳化硅粉
机译: 由低纯氮生产高纯氮的方法和设备
机译: 一种低纯氧和高纯氮的生产方法及其装置
机译:反应温度对合成高纯碳化硅粉的影响
机译:射频加热燃烧合成高纯碳化硅粉
机译:无催化剂电弧放电法合成高纯碳化硅纳米线
机译:用碳硅烷聚合物的转化方法合成高表面积碳化硅
机译:第一部分。具有吲哚胺2,3-二加氧酶抑制剂潜在活性的旋光色氨酸衍生物的合成:一种通过不对称催化氢化的方法。第二部分。含α1的GABA(A)/苯并二氮杂receptor受体亚型的选择性配体的设计,合成和药理作用:位于-3和-6位的β-咔啉及其相应的二价配体的SAR研究。第三部分。重要生物遗传中间体,(+)-聚神经氨酸和(+)-聚神经氨酸醛,以及16-表-维西辛和Macusine A的首次对映体全合成。
机译:聚合诱导的自组装合成高χ-低氮二嵌段共聚物
机译:光学纯氮杂二茂铁阴离子的对映选择性合成 - 手性氮杂二茂铁的第一种通用和实用方法
机译:环应变和空间位阻在一种合成大环和高聚磷腈的新方法中的作用